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等離子清洗機
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首頁 產品中心 電暈機(定做) 線性寬幅等離子處理機 輝光寬幅等離子清洗機

輝光寬幅等離子清洗機

產品型號:TS-AP300

產品簡介: 適用于柔性卷狀材料如薄膜、塑料的表面改性處理,同時能夠改善材料表面的浸潤能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力。

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產品參數



設備外形尺寸

(長*寬*高mm)1700*1250*1420

占地尺寸

1700mm*1250mm

電源

AC220V,50Hz 電阻≤ 2Ω

工作環境

要求潔靜

相對溫度

<40℃

相對濕度

RH(35-85)%

氣體

氮氣/氬氣/氧氣等氣體

清洗節拍

0-4米/每分可調

冷卻方式

軸流強制風冷

等離子輸出功率

1-2kw

電極頭

合金

控制方式

PLC+觸摸屏

有效處理寬幅

50-2000mm

跟蹤方式

LC網絡匹配

跟蹤驅動方式

采用伺服驅動

有效處理高度

20-40mm

工作氣體使用量

CDA:16±6L/min

傳送結構

皮帶傳送,0.5m/min

輝光寬幅在線式等離子清洗系統是一種全自動狀態下無任何環境污染的干式清洗方式,系統由上下料系統、視覺監控系統、工控機觸摸屏、等離子射頻源、物料傳輸系統、真空系統等組成。實現粘接、錫焊、電鍍前的表面清洗處理,生物材料的表面修飾,印刷涂布或粘接前的表面活化處理

等離子工藝特點


a.射出的等離子體流為中性,不帶電,可以對各種高分子、金屬、橡膠、PCB電路板等材料進行表面處理;

b.提高塑料件粘接強度,例如 塑料材料處理后可提升數倍,大部分塑料件處理后可使表面能量達到 40達因以上;玻璃處理后水滴角小于30度。

c.等離子體處理后表面性能持久穩定,保持時間長;

d.干式方法處理無污染,無廢水,符合環保要求;

e.可以在生產線上在線運行處理,無須低壓真空環境,降低成本

設備用途


去除產品表面有機污染物、油污或油脂,同時能夠改善材料表面的浸潤能力,使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作,增強粘合力、鍵合力。

工藝流程:

產品放置進料口→進入輝光放電區域→出料口取產品 (重復連續工作)。

設備結構和產能評估

通過式線性結構,美觀大方,PLC人機控制,全電路檢測,批量生產機型;

處理區域寬幅300mm,可以根據具體使用定制,每分鐘處理量根據產品規格核算,具體依效果檢測后的時間控制

產品特點


我司氬氣直接式等離子體是至今開發的輝光等離子中集穩定,高品質,簡單易用等特性于一體的系統, 同時兼具環保, 節能,低氣耗等優勢,應用領域眾多。高品質方案不僅是指表面親水處理,還包括高品質等離子涂布技術,關聯領域包括平面顯示,醫療,生物, 環境和半導體等。

1.觸摸屏方面:觸摸屏的主要工藝的清洗,提高OCA/OCR,壓層,ACF,AR/AF涂層等工藝上的粘合力/涂層力,為去除氣泡/異物,通過多種大氣壓等離子形態的運用,可以將各種玻璃,薄膜均勻的大氣壓等離子放電使表面無損壞進行處理。

2.基板玻璃方面:LCD, LTPS, OLED等各種基板玻璃表面清洗和連接前工藝的設備,不需要真空排氣。采用均勻大氣壓等離子,以大氣壓等離子的問題點Stremer或者Arc的產生為準則阻斷,基板上無損壞的表面清洗工藝。

3.半導體方面:半導體成型工藝,刻模工藝和焊接工藝,焊球連接和安裝工藝的廣泛使用可以提高芯片和環氧間的粘結力,和引線框架的安裝和粘接力,板材和焊球之間的粘結力。防止半導體特性上的電氣損壞或者容易發生的靜電問題 ,可以采用多元系統技術。另外,因為可以根據硅片的大小制造大氣壓等離子,無論多小的等離子都可以適用。

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